2017台湾国际太阳光电展览会~后记

2017台湾国际太阳光电展览会于10月20日圆满落幕，今年，仓和股份有限公司怀抱着无比信心与热忱举办此次的展示会。这次的展会中，我们发表了最新专利技术PI取代传统乳剂制版，并以Laser取代传统黄光制程，藉以提高线宽精度与网印寿命等需求。

此外，外贸协会特别安排各国媒体莅临仓和的摊位参观采访；藉由国际媒体的曝光，让更多全球产业认识台湾的优质企业。更藉由我司研发中心协理参与国际太阳能制程技术论坛，对外发表仓和近期的研究专利与成果分享，感谢各位业界先进们莅临我司给予建议和指导，因为您们的支持与鼓励，使仓和20多年来不断成长与茁壮;同时也感谢协助本次展会相关事务的所有同仁，因为有您们的参与使本次展会得以顺利圆满完成。 

仓和一直以来都朝着为客户提供最佳解决方案的目标而努力，这理念驱使我们必须不断前进的强大动力，也期待未来持续「与您共同探索明日的网印世界」。